IMN’s research activity is focused on the advancement of fundamental and applied research in various topics within the field of nanoscience and nanotechnology.
It has a micro and nanofabrication (MiNa) service that meets the most unique and demanding requirements.
The IMN has extensive experience in advanced techniques for the fabrication, characterization and manipulation of nanostructures, such as molecular beam epitaxy (MBE), electron and ion beam lithography, or techniques based on near-field microscopy (SPM). This accumulated experience allows the IMN to address multidisciplinary research topics, as well as to offer technological support to different research groups in Spain and abroad.
El Instituto de Micro y nanotecnología comenzó desde su creación a involucrarse en varias áreas de investigación interesantes relacionadas con la nanotecnología. La
capacidad de observar, comprender y manipular las propiedades de la materia a escala nanométrica está teniendo un gran impacto en muchos campos, como las
tecnologías de la información, las ciencias de los materiales, la biomedicina o
la producción y el almacenamiento de energía. El IMN se ha convertido en un
paradigma de tal confluencia de campos, combinando alta especialización y
multidisciplinariedad. La investigación científica en IMN la lleva a cabo un
equipo de personas entusiastas y apasionadas que exploran diversas áreas de la
nanociencia con el objetivo de investigación común de identificar nuevos
fenómenos y propiedades de la materia estructurada a nanoescala. También
pretendemos impactar en otros niveles de la I+D+i (I+D+i), en particular al
sector industrial, por lo que identificamos aquellas estructuras, materiales o
propiedades que son aptos para ser utilizados en dispositivos con prestaciones
novedosas o extremas. funcionalidades para aplicaciones que aborden las
necesidades presentes y futuras de la sociedad en salud, producción de energía
e información y comunicaciones. Y todo ello, teniendo en cuenta los principios
del desarrollo sostenible. En resumen, buscamos desarrollar y explotar…
NANOTECNOLOGÍA PARA UN FUTURO MEJOR.
Las actividades de investigación del centro comenzaron en 1985 como parte del Centro Nacional de Microelectrónica (“Centro Nacional de Microelectrónica”, CNM) enfocadas en la investigación de tecnología de semiconductores III-V para aplicaciones optoelectrónicas. En 1994, el CNM estaba organizado en dos institutos de investigación gestionados de forma independiente: El Instituto de Microelectrónica de Barcelona (“Instituto de Microelectrónica de Barcelona, IMB-CNM) y el Instituto de Microelectrónica de Madrid (“Instituto de Microelectrónica de Madrid, IMM-CNM ). En 1996 se incorporó al CNM el Instituto de Microelectrónica de Sevilla y, al mismo tiempo, se inauguró un nuevo edificio para la ubicación exclusiva del IMM-CNM en Tres Cantos, Madrid. En junio de 2017, el Presidente del CSIC aprobó el cambio de denominación y acrónimo del IMM-CNM a su actual denominación: Instituto de Micro y Nanotecnología (“Instituto de Micro y Nanotecnología”, IMN-CNM). Este nombre describe más apropiadamente las actividades que actualmente se llevan a cabo.
El IMM cuenta con las siguientes técnicas para la fabricación de nanoestructuras y nanodispositivos:
- Epitaxia de haces moleculares (MBE) de semiconductores III-V (In, Ga, Al, As, P, Sb)
- Pulverización catódica en ultra alto vacío de metales y semiconductores compuestos
- Deposición de metales: por haz de electrones, evaporación térmica y pulverización
catódica - Ataques químicos: ataque húmedo y ataque seco por haces de iones reactivos (RIBE,
RIE) - Litografía de ultra-violeta
- Litografía coloidal
- Técnicas de nanolitografía: Litografía por haz de electrones, Litografía por haz de iones,
oxidación por AFM - Fabricación de nanoestructuras semiconductoras:
— Pozos, hilos y puntos cuánticos de semiconductores III-V por MBE
— Nanohilos de Si por CVD - Fabricación de nanoestructuras magnéticas, plasmónicas y magnetoplasmónicas en ultra alto vacío por pulverización catódica (DC y RF), célula Knudsen y evaporador por cañón de electrones
- Fabricación de cristales fotónicos 2D
- Procesos de fabricación por electroquímica:
— Membranas de alúmina porosa (15 nm < Φ < 400 nm)
— Electrodeposición de semiconductores
El IMM cuenta con las siguientes técnicas para la caracterización de nanoestructuras y nanodispositivos:
- Caracterización estructural: AFM, RX
- Caracterización eléctrica: Efecto Hall, I-V, C-V
- Caracterización óptica:
— Fotoluminiscencia (PL) y µPL confocal a baja temperatura (370-2300 nm, 4.2-300 K)
— PL y µPL confocal resuelta en el tiempo <100 ps (400-1800 nm, 4.2-300 K)
— PL y µPL confocal en alto campo magnético hasta 9 Tesla (370-2300 nm, 4.2-300 K)
— Espectroscopía de correlación de fotones individuales (interferometría HBT)
— Elipsometría espectral
— Microscopía de barrido en campo cercano (SNOM)
— Espectroscopía de modulación y absorción - Caracterización magneto-óptica:
— Espectroscopía magneto-óptica en configuraciones polar y transversal
— Ciclos de histéresis en configuraciones polar y transversal
— Torque magneto-óptico - Interferometría plasmónica
- Caracterización magneto-plasmónica en configuración Kretschmann
- Microscopía de fuerzas magnéticas (MFM)
- Caracterización de NEMS y MEMS
The goal of the IMN is to advance fundamental and applied research within the field of nanoscience and nanotechnology, at the intersection of physics, biology and materials science.
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